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SKLMW

用于光子学和太赫兹应用的等离子体器件

35nm Diameter Dots 10nm Wide Lines Crestec CABL 9000C High-resolution Electron Beam Lithography System
35nm Diameter Dots 10nm Wide Lines Crestec CABL 9000C High-resolution Electron Beam Lithography System

表面等离子体极化(SPPs)可以参考电磁波被耦合到在介质和导体作为之间的充电载体,电磁波沿边界面传播。探索、激励和控制SPPs被称为等离子学。导体的欧姆损失、介质吸收以及散散是由于表面上的不均匀性影响了等离子体的传播。通过使用纳米技术,我们来创造一些自然界材料所没有的电磁特性,比如电子束光刻,亚波长等离子体纳米结构。电磁波能被牢牢地限制住并得到极大地增强。它们可以被我们用传统器件所不可能的方式操纵。在一系列的科学和工程学科相关的物理和潜在应用已经产生了很多跨学科研究。在SKLMW,我们在设计、制造并研究从太赫兹到可见光频率的等离子器件。